【資料圖】

本期投資提示：

AHP 得分——剔除流動性溢價因素后，微導納米2.76 分，位于總分的43.7%分位。

考慮流動性溢價因素后，我們測算微導納米AHP 得分為3.04 分，位于科創體系AHP模型總分的48.4%分位，位于上游偏下水平。剔除流動性溢價因素后，我們測算微導納米AHP 得分為2.76 分，位于科創體系AHP 模型總分43.7%分位，位于中游偏上水平。

假設以65%入圍率計，中性預期情形下，微導納米網下A、B、C 三類配售對象的配售比例分別是：0.0473%、0.0471%、0.0293%。

國內主要的光伏鍍膜設備企業之一，產品已在TOPCon 高效電池生產線開展應用。公司主要從事先進微、納米級薄膜沉積設備的研發、生產和銷售，已開發出適用于光伏、半導體等應用領域的多款薄膜沉積設備。在光伏領域，公司光伏薄膜沉積設備的技術指標與國內領先企業具有可比性，部分指標數據占有優勢，同時在國際競爭中亦能處于較高水平。公司 ALD 量產設備打破制約 ALD 技術應用于光伏領域的產能限制，成為行業主流鍍膜方案之一。公司獲得包括阿特斯、隆基股份、愛旭股份、晶科能源等多家重要光伏客戶訂單，并在通威太陽能、無錫尚德等N 型TOPCon 高效電池生產線上開展應用，成為國內主要的光伏鍍膜設備企業之一。

半導體領域解決“卡脖子”難題，獲得國內知名企業訂單。在半導體領域，ALD 設備基本由境外廠商壟斷，而高介電常數（High-k）柵氧薄膜工藝是半導體先進制程中難度較大的工藝之一。公司不僅是行業內極少數的新進入者和國產廠商代表之一，也是國內首家成功將量產型 High-k 原子層沉積設備應用于 28nm 節點集成電路制造前道生產線的國產設備公司，設備表現和工藝關鍵性能參數達到國際同類水平。公司先后獲得多家國內知名半導體公司的商業訂單，與多家國內主流半導體廠商及驗證平臺簽署了保密協議并開展產品技術驗證等工作，同時積極開展在半導體其他細分領域以及柔性電子領域中的應用。在國產替代背景下，國內半導體ALD 設備企業具有廣闊的發展空間。

ALD 技術優勢提供發展空間，公司持續構筑和強化技術壁壘。與傳統工藝相比，ALD工藝優異的沉積均勻性和一致性使得其在微納電子學和納米材料等領域具有廣泛的應用潛力，為公司的后續發展提供了廣闊市場空間。公司建立了跨專業、多層次的人才梯隊，設立多個科研平臺，不斷助力下游應用領域關鍵產品和技術的攻關與突破。目前，公司已形成原子層沉積反應器設計技術等多項核心技術，持續構筑和強化技術壁壘，并在此基礎上繼續深化ALD 技術在下一代光伏電池、集成電路、先進存儲等方面的技術儲備，為客戶提供更豐富的高端薄膜沉積產品。

業績體量較小，營收復合增速高于可比均值，毛利率領先可比，研發支出占比逐年上升。

公司2020-2021 年營收、歸母凈利潤低于可比均值，2019-2021 年營收復合增速為高于可比均值，但2021 年歸母凈利潤較2019 年有所下降。從毛利率水平來看，公司2019-2021 年毛利率分別為53.98%、51.90%、45.77%，逐年下降但領先可比，而研發支出占營收比重逐年上升。

微導納米需警惕技術迭代及新產品開發不足、經營業績波動甚至出現虧損、主要客戶集中度較高、行業周期波動和產業政策變化、毛利率下降、存貨跌價等風險。